iPhone 8の新たな設計図が流出!やはり背面に指紋認証が搭載される?

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Apple製品のリーク情報に定評のあるSonny Dickson氏は、iPhone 8のものと思われる設計図を公開しました。

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やはり背面に指紋認証搭載か?

公開された画像を見てみますと、背面のAppleのロゴの下に指紋認証と思われる穴が空いており、デュアルカメラも縦並びになっていることがわかります。

サイズは縦149.501mm、横72.497mmとなっており、以前に中国SNSのWeiboより流出したという設計図のサイズと完全に一致しています。

側面はiPhone 4s/5sのようなフラットな形状となっており、iPhone 7のような丸みを帯びた側面とは別のデザインとなっていることがわかります。

今回流出したのは2つあるという試作機の背面指紋認証モデルだと思われ、今まで噂されていたディスプレイ内蔵の指紋認証モデルとはまた別のモデルになると思われます。

最近こうした詳細な設計図の流出情報が相次いでいますが、つい先日の情報では全3段階ある検証テストで第1段階のEVT(技術検証テスト)を終え、第2段階のDVT(設計検証テスト)に入ったと伝えられており、最終段階のPVT(製造検証テスト)までもう間もなくか、すでに入っていることが考えられます。

個人的にはディスプレイ内蔵の指紋認証モデルが採用されてほしいものですが、指紋認証をディスプレイに統合する過程で製造上の問題が発生していると言われ、もしかすると今回流出した背面指紋認証モデルになる可能性も考えられます。

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参考:iPhone Mania
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